曝光時(shí)有受光部分和未受光部分，而顯影液則作用于整個(gè)感光層表面，然而為什么只有顯影中心處的鹵素銀被還原成銀呢？這是因?yàn)樵陲@影液中加有化鉀，它在溶液中電離出Br-。顯影中心是銀原子，它不可能吸附BI-，只有Ag+的地方才會(huì)吸附它。因此，除了顯影中心外，都被Br-所包圍，而形成負(fù)電屏障。當(dāng)細(xì)絲長(zhǎng)到一定長(zhǎng)度時(shí)，便向橫向增長(zhǎng)，致使整個(gè)顆粒都被還原子成金屬銀。這樣，顯影離子便從顯影中心的缺口處進(jìn)入晶體，而使鹵素銀還原出銀。

感光特性曲線(xiàn)描述了感光材料的有關(guān)特性。在O~A的范圍內(nèi)，感光層沒(méi)有任何黑化。點(diǎn)A描繪了膠片的黑化閾值。對(duì)連續(xù)調(diào)用的各種膠片，黑化閾值應(yīng)盡可能小。在A~B范圍內(nèi)，曝光不足；B~C范圍內(nèi)，曝光正常（曲線(xiàn)的線(xiàn)性部分） ； C~D范圍內(nèi)，曝光過(guò)度.D是曝光過(guò)度的終點(diǎn)。在A~D的范圍內(nèi)，具有較大的曝光量對(duì)應(yīng)較大的黑化程度的特性。定影是將停顯后的感光材料放入定影液中，經(jīng)過(guò)一定的化學(xué)處理，使經(jīng)顯影所形成的影像固定下來(lái)的過(guò)程。從D~E則出現(xiàn)逆轉(zhuǎn)，稱(chēng)為反轉(zhuǎn)部分。膠片的實(shí)用區(qū)域是特性曲線(xiàn)從m~n的部分。

“曝光顯影工藝就是我們常說(shuō)的黃光工藝，這種曝光工藝其實(shí)是很成熟的，它應(yīng)用在PCB行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、甚至顯示面板行業(yè)，但這種工藝應(yīng)用到現(xiàn)在的3D玻璃蓋板工藝的時(shí)間并不長(zhǎng)。這種工藝的優(yōu)點(diǎn)是曝光的精度高，它的良率高。”

雖然如此，但是PCB曝光工藝和半導(dǎo)體工藝曝光工藝條件不一樣，PCB通常是貼合式曝光，曝光是沒(méi)有距離的，但現(xiàn)在的蓋板是3D曲面蓋板，它的曝光，通常來(lái)說(shuō)MASK它跟產(chǎn)品有一定的距離，這個(gè)距離會(huì)造成一定的偏差，所以它的工藝是有難點(diǎn)的。