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鄂爾多斯微區(qū)膜厚儀供應(yīng)商了解更多「英飛思科學(xué)」屈臣氏會(huì)員卡激活

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最后更新: 2024-03-16 01:06
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5分鐘前 鄂爾多斯微區(qū)膜厚儀供應(yīng)商了解更多「英飛思科學(xué)」[英飛思科學(xué)66089b4]內(nèi)容:

蘇州英飛思科學(xué)儀器有限公司,英文名字:Efficiency Scientific Instrument Co.,Ltd.

公司logo和英文縮寫為ESI。

英飛思ESI坐落于美麗而現(xiàn)代的蘇州工業(yè)園。

XRF鍍層測(cè)厚儀工作原理鍍層測(cè)厚儀是將X射線照射在樣品上,通過從樣品上反射出來的第二次X射線的強(qiáng)度來測(cè)量鍍層等金屬薄膜的厚度,因?yàn)闆]有接觸到樣品且照射在樣品上的X射線能量很低,所以不會(huì)對(duì)樣品造成損壞。同時(shí),測(cè)量的也可以在10秒-30秒內(nèi)完成。

英飛思XRF鍍層測(cè)厚儀優(yōu)勢(shì)

>微光斑X 射線聚焦光學(xué)器件

通過將高亮度一次 X 射線照射到0.02mm的區(qū)域,實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。

>硅漂移探測(cè)器 (SDD) 作為檢測(cè)系統(tǒng)

高計(jì)數(shù)率硅漂移檢測(cè)器可實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。

>高分辨率樣品觀測(cè)系統(tǒng)

的點(diǎn)位測(cè)量功能有助于提高測(cè)量精度。

>全系列標(biāo)配薄膜FP無(wú)標(biāo)樣分析法軟件,可同時(shí)對(duì)多層鍍層及全金鍍層厚度和成分進(jìn)行測(cè)量

配合用戶友好的軟件界面,可以輕松地進(jìn)行日常測(cè)量。

全系列標(biāo)配薄膜FP無(wú)標(biāo)樣分析法軟件,可同時(shí)對(duì)多層鍍層及全金鍍層厚度和成分進(jìn)行測(cè)量配合用戶友好的軟件界面,可以輕松地進(jìn)行日常測(cè)量。材料的鍍層厚度是一個(gè)重要的生產(chǎn)工藝參數(shù),其選用的材質(zhì)和鍍層厚度直接影響了零件或產(chǎn)品的耐腐蝕性、裝飾效果、導(dǎo)電性、產(chǎn)品的可靠性和使用壽命,因此,鍍層厚度的控制在產(chǎn)品質(zhì)量、過程控制、成本控制中都發(fā)揮著重要作用。

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以上就是關(guān)于鄂爾多斯微區(qū)膜厚儀供應(yīng)商了解更多「英飛思科學(xué)」屈臣氏會(huì)員卡激活全部的內(nèi)容,關(guān)注我們,帶您了解更多相關(guān)內(nèi)容。
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