曝光顯影

1、蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩類(lèi)。

早可用來(lái)制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量?jī)x器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工；經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。此外，即使在通過(guò)使用感測(cè)構(gòu)件來(lái)執(zhí)行控制的情況下，如果顯影輥的傳送偏置或旋轉(zhuǎn)數(shù)量改變，則由于下游中的顯影輥與感光構(gòu)件之間的顯影條件也需要同時(shí)受控，因此控制變得復(fù)雜。

2、曝光就是光圈、快門(mén)和感光度ISO的組合。

其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。

3、顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。

正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。

東莞市清溪利成感光五金廠本廠主要做曝光顯影工藝，平面、圓弧面、凹凸面、噴砂1氧2氧陽(yáng)極、五金絲印.五金腐蝕等產(chǎn)品加工，有多年經(jīng)驗(yàn)，有需要以上的工藝歡迎您的到來(lái)參觀和洽談，可免費(fèi)打。

（1）圓網(wǎng)上膠后，烘干時(shí)間過(guò)短或溫度偏低，經(jīng)曝光后的感光膠層由于未能達(dá)到完全光敏聚合，當(dāng)浸水顯影時(shí)，被曝光的膠層也擴(kuò)散，并溶解于水，使整個(gè)園網(wǎng)膠層剝落，進(jìn)而失去原有的花紋。

顯影液的成分與功能.一般顯影液由顯影劑、保護(hù)劑、促進(jìn)劑和抑制ji組成.a.顯影劑 米妥爾：顯影速度快,反差小,受溫度影響小.對(duì)ben二酚：顯影緩和,反差大,受溫度影響大.菲尼酮：損耗低,用量小,易保存,易產(chǎn)生灰霧.b.保護(hù)劑：無(wú)水亞硫酸鈉 在顯影液中Na 2SO 3先與氧氣化合,防止了顯影劑的氧化,且有溶解銀鹽的的作用,有微粒效果.c.促進(jìn)劑：無(wú)水碳酸鈉.在顯影中它能產(chǎn)生酸性物質(zhì)xiù氫酸,起到妨礙顯影劑的作用,故用Na 2SO 3增加堿性.d.抑制ji：xiù化鉀.它可防止未曝光銀鹽還原成銀而生成灰霧.

東莞市清溪利成感光五金廠本廠主要做曝光顯影工藝，平面、圓弧面、凹凸面、噴砂1氧2氧陽(yáng)極、五金絲印.五金腐蝕等產(chǎn)品加工，有多年經(jīng)驗(yàn)，有需要以上的工藝歡迎您的到來(lái)參觀和洽談，可免費(fèi)打。

金屬蝕刻加工工藝過(guò)程為加工材料通過(guò)曝光顯影工序、將產(chǎn)品的圖形轉(zhuǎn)移到金屬鋼片上

把要蝕刻的金屬板接在電源的正極，放平后將噴淋器接在電源的負(fù)極，噴出的鹽水為導(dǎo)電液，進(jìn)行電解，達(dá)到蝕刻的目的。

電蝕刻是利用金屬在以自來(lái)水或鹽水為蝕刻主體的液體中發(fā)生陽(yáng)極溶解的原理，（電解的作用下）將金屬進(jìn)行蝕刻，接通蝕刻電源，從而達(dá)到蝕刻的目的。現(xiàn)在市售的電解蝕刻機(jī)都是手動(dòng)噴淋式的，并且都是以鹽水為蝕刻溶液，功率有大小。

東莞市清溪利成感光五金廠本廠主要做曝光顯影工藝，平面、圓弧面、凹凸面、噴砂1氧2氧陽(yáng)極、五金絲印.五金腐蝕等產(chǎn)品加工，有多年經(jīng)驗(yàn)，有需要以上的工藝歡迎您的到來(lái)參觀和洽談，可免費(fèi)打。

曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在菲林的制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。

金屬蝕刻加工中，曝光顯影是保證圖形準(zhǔn)確的重要步驟，在其中需要用到感光膠進(jìn)行，后面將感光膠處理干凈完成曝光顯影，然而蝕刻加工廠家在實(shí)際操作中會(huì)遇到感光膠脫不凈的情況